Zwei-Schritt-Prozess zur Abscheidung von Oxidmaterialien mittels PECVD In einem zweistufigen Verfahren werden Oxide auf technisch besonders einfache Weise auf beliebige Oberflächen aufgebracht. Hierzu wird zunächst eine Primer-Schicht, die das gewünschte Metall enthält, aus einem geeigneten Präkursor im Plasma auf die Oberfläche abgeschieden. Im zweiten Schritt wird die Primer-Schicht in einem einfachen Luftplasma in ein stöchiometrisches Oxid umgewandelt. Dieses Verfahren ermöglicht es, einfach dosierbare, gasförmige Präkursoren für die Metalle zu verwenden, ohne dass diese bereits mit dem Sauerstoff im Gasgemisch reagieren und ausfallen.